China Sukses Ciptakan Mesin Litografi E-Beam Xizhi, Ancaman Baru bagi AS

Semarang (usmnews) Perang teknologi antara China dan Amerika Serikat memasuki babak baru. China memamerkan mesin litografi e-beam Xizhi untuk mengurangi ketergantungan pada Barat dan memperkuat persaingan chip global.

Mesin litografi Xizhi dikembangkan oleh Universitas Zhejiang. Teknologi ini menggunakan berkas elektron (e-beam) untuk mengetsa sirkuit mikro pada wafer silikon. Hasilnya, Xizhi mampu menciptakan garis sirkuit selebar 8 nm dengan akurasi 0,6 nm, sesuai standar internasional.

Meski kalah cepat dari EUV ASML, Xizhi tetap jadi terobosan murah yang menarik banyak perusahaan dan lembaga riset China.

Embargo teknologi dari AS dan Belanda menghambat kemajuan industri chip China. ASML, produsen tunggal mesin litografi EUV, dilarang menjualnya ke China.

Padahal, TSMC dan Samsung sudah massal memproduksi chip 2 nm berkat teknologi EUV 13,5 nm yang menjadi kunci chip modern di bawah 7 nm.

Sebaliknya, China hanya bisa mengandalkan mesin litografi DUV (Deep Ultraviolet) dengan teknologi lama 193 nm. Kehadiran Xizhi diharapkan bisa menutup sebagian kesenjangan tersebut.

Tak hanya Xizhi, Huawei juga mengembangkan mesin litografi EUV di fasilitas Dongguan. Proyek ambisius ini ditargetkan uji coba pada 2025 dan produksi massal pada 2026.

Jika berhasil, kolaborasi Huawei dengan SMIC (Semiconductor Manufacturing International Corporation) bisa menghasilkan chip canggih yang mampu bersaing dengan Apple, Qualcomm, hingga Nvidia.